- Lithographie UV & électronique
- Fabrication de masque de photolithographie
Dépôt
Dépôts de couches minces et épaisses
Lithographie UV & électronique
Fabrication de masque de photolithographie
contact : florent.bassignot@femto-engineering.fr
Dépôts de couches minces et épaisses
Gravure sèche (plasma ionique) : RIE, DRIE FIB (Focus Ion Beam) Matériaux : Silicium (max 6 pouces), Verre, Si3N4, LiNbO3,…
Microscope (MEB, optique, FIB), profilomètre mécanique Mesures spécifiques : Contraintes, indice optique, angle de contact
Femto Engineering | From science to society
15B avenue des Montboucons, 25030 Besançon Cedex
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